据前人Gupta的研究，北京Cl2转化为HCl的反应速率可达0.41× 10-6 molcm-2 s-1。
而CVD生长可通过调节生长化学过程更好地控制杂质的掺入，国际并通过各种工艺方法，从而能够提供适用于金刚石光电应用的高质量大尺寸单晶金刚石。所以，打印为实现大规模集成电路制造，高质量、大尺寸的金刚石单晶衬底的生长是至关重要的。
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